講演情報
[9p-E215-8]トランジスタ応用に向けた単結晶SiH薄膜の剥離・転写技術開発
〇宮本 哲士1、寺田 吏1、石部 貴史1,2、中村 芳明1,2 (1.阪大院基礎工、2.阪大OTRIスピン)
キーワード：
フレキシブルトランジスタ、剥離転写技術、Silicane
高性能なフレキシブルトランジスタは、擬二次元薄膜を基板から剥離してフレキシブル基板へ転写する手法で実現されている。最近、Siの単原子層Siliceneを水素終端したSilicane（SiH）が注目されている。しかし、この材料の剥離・転写技術は未開発である。そこで、本研究では、水の電気分解によって発生する水素の泡を利用した電気的剥離法を用い、Si基板上単結晶SiH薄膜の剥離・転写技術を開発した。