講演情報
[9p-N101-1]高効率深紫外LEDに向けたマルチショットLLOによる基板剥離
〇久保 太哉1、三浦 聖央1、廣田 晴大1、藤田 麻里奈1、高瀬 健太1、北村 友佑1、林 俊宏1、竹内 哲也1、上山 智1、岩谷 素顕1、齋藤 義樹1,2 (1.名城大理工、2.豊田合成)
キーワード：
深紫外LED、レーザーリフトオフ
深紫外LEDの高効率化にはサファイア基板の剥離が有効であり、その手法としてレーザーリフトオフ（LLO）が知られている。本講演では、ArFエキシマレーザーを用いたマルチショットLLOによる基板剥離について報告する。照射領域のオーバーラップ条件が剥離挙動に与える影響を評価するとともに、得られた知見を基に大面積化を検討した結果について述べる。