[9p-PA1-1~52] 21.1 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[9p-PA1-1] 静電スプレー堆積(ESD)法により堆積したNi_xZn_(1-x)O混晶の層構造に依存した特性制御に向けた検討

〇田中 哉多¹、杉山 睦^1,2 (1.東理大　創域理工、2.東理大　総研)

キーワード：

静電スプレー、NiO、溶液法

本研究では、NiO/ZnO太陽電池のバンドオフセット改善に向けた中間層Ni_xZn_(1-x)O を成膜し、ESD法における原料供給条件および熱処理による層間拡散が組成の深さ方向特性に与える影響、及び薄膜のバンドギャップに及ぼす影響を検討した。