講演情報
[9p-PA1-26]ミストCVD法により作製したNiO薄膜の構造および化学状態評価
〇(M2)聶 恩農1、応 松岳1、松田 時宜1 (1.近大総理)
キーワード：
酸化ニッケル、ミスト-CVD
本研究では、Mist-CVD法により100～500 ℃でNiO薄膜を作製し、成膜温度が表面化学状態、結晶性および光学特性に及ぼす影響を調査した。低温成膜試料ではNi³⁺および欠陥関連成分が多く観察された一方、高温成膜試料ではNi²⁺成分が増加し結晶化が進行した。これらの結果から、成膜温度の制御によりNiO薄膜中の欠陥状態および薄膜特性を調整できることが示された。