[15a-WL2_201-1~9] 3.10 フォトニック構造・現象

11:45 〜 12:00

[15a-WL2_201-9] キラルジャイロイド接合における界面局在状態の理論的研究

〇高橋 克拓¹、Phan Huyen Thanh¹、吉田 翔野¹、若林 克法¹ (1.関学大理工)

キーワード：

フォトニック結晶、界面状態、幾何学的位相

キラリティの異なるジャイロイド構造を接合したフォトニック結晶における電磁場状態を理論的に解析する．フォトニックバンドギャップ内に，界面に局在した準位が出現することを示す．さらに，バルク構造のフォトニックバンドに属するブロッホ固有状態について Wilson loop を数値的に評価し，幾何学的位相の観点から界面状態の起源を議論する．