[16p-W9_325-1~10] 11.2 薄膜，厚膜，テープ作製プロセスおよび結晶成長

14:30 〜 14:45

[16p-W9_325-5] KOH溶液へのN₂ガスバブリングによるNd123のNd/Ba置換抑制と高T_c化

重信 明希¹、〇舩木 修平¹、山田 容士¹ (1.島根大自然)

キーワード：

希土類系銅酸化物高温超伝導体、KOHフラックス法

Nd/Ba置換のない高T_cなNd123の大気中・低温成膜技術を確立することを目的とし，KOH融液への乾燥N₂ガスバブリングを行うことにより溶液内の酸素量を低減させ，バルク値に匹敵する高いT_cを有するNd123膜の作製手法を検討した．
N₂ガスバブリングを行い作製したNd123膜試料は，Nd/Ba置換のないNd123バルクと同等のT_c^onset ~ 93 Kの転移が確認された．これは，N₂ガスバブリングを行うことにより，溶液中において酸素量が十分に低下した合成環境が実現し，Nd/Ba置換が抑制されたためであると考えられる．