講演情報
[17p-WL2_401-4]Siフォトニクス2次元グレーティングカプラの非周期設計
〇山田 雄一朗1、田原 直樹1、馬場 俊彦1 (1.横国大院工)
キーワード：
グレーティングカプラ、二次元グレーティングカプラ、2D GC
Siフォトニクスでの導波路と単一モードファイバとの高効率結合は重要である．送信時に有効な単一偏波用グレーティングカプラ（GC）は，メタ構造により高効率が得られるが，受信時には偏波分離型2次元GCが必要になる．ただし簡単な構造では効率が30%以下と低い．効率を高めるメタ構造は100 nm以下の微細構造を必要とし，一般的なSiフォトニクスファウンダリには適用できなかった．本研究では，単に2次元 GCのパターンを非周期的にするだけで高効率が得られる設計をCMA-ESにより探索した．