講演情報
[18a-WL1_201-2]SrLiH3エピタキシャル薄膜の界面効果によるヒドリド伝導率変化
〇(D)福士 英里香1、和田 望1、長坂 胡桃1、原田 尚之2、大口 裕之1 (1.芝浦工大理工、2.NIMS)
キーワード：
水素化物、ヒドリド伝導、エピタキシャル薄膜
柔らかいアニオンH-を担体とする水素化物は固体電解質候補だが、伝導率不足が課題である。そこでSrLiH3をエピタキシャル薄膜化し界面効果で高伝導化を検討した。~100 nm膜は60–200 ℃の全温度域で、基板種によらず厚膜（~1 μm）より伝導率が向上し、特にLaAlO3基板上では200 ℃で5.1 × 10-5 S cm-1と厚膜より一桁伝導率が上昇していた。これは、薄膜化に伴う基板歪みおよび界面近傍の欠陥・緩和が伝導に影響する可能性を示唆する。