講演情報

[J222p-04]圧縮応力の印加方向がFe基アモルファス合金薄帯の磁壁挙動に及ぼす影響

〇末次 優希1、鈴木 庸久1、野村 光由1、藤井 達也1 (1. 秋田県立大学)

キーワード:

Fe-Si-B、磁区、圧縮応力、磁壁