セッション詳細
外場効果を利用した新たな創製技術と機能発現
2025年10月29日(水) 14:40 〜 16:10
第 II 会場(中ホール2)
[2-36]特別講演：レーザーを用いたセラミックスの緻密化プロセス 《焼結》
*木村 禎一1 (1. (一財)ファインセラミックスセンター)
[2-37A]レーザー溶融法を用いたAl2O3-YAG微細共晶組織材料の作製 《組織制御》
白石 周1、青木 勇太1、増田 紘士1、*吉田 英弘1 (1. 東京大学 大学院 工学系研究科)
[2-38A]磁場を用いた結晶配向がアパタイト型ランタンシリケートの透光性に及ぼす影響 《焼結, 組織制御》
*鈴木 達1、小林 清1、川村 明広2、清野 肇2 (1. (国研)物質・材料研究機構、2. 芝浦工業大学)
[2-39A]磁場を用いたSSZ-13の組織制御 《組織制御》
*金川 隼也1、松田 元秀1、志田 賢二1 (1. 熊本大学)
[2-40A]焼結法によるMgAl2O4/Al2O3積層透明体の作製 《焼結, 物性》
*森田 孝治1、劉 麗紅1、鈴木 達1 (1. (国研)物質･材料研究機構)