講演情報

[3-19B]ハイエントロピー酸化物の作製と照射耐性向上 《合成, 焼結, 物性, 評価技術, 計算科学, 組織制御》

*青柳 登1、太田 玖吾1、高木 聖也1、千葉 力也1、樋川 智洋1、熊谷 友多1、塚崎 壮輔1、奥村 雅彦1、市坪 哲2 (1. 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構、2. 東北大学)

キーワード:

ハイエントロピー酸化物、耐照射材料