9:00
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17:00
第I会場(コンベンションルーム1)
第II会場(コンベンションルーム2)
第III会場(B1会議室)
第IV会場(B2会議室)
第V会場(B3会議室)
第VI会場(B5会議室)
第VII会場(B7会議室)
第VIII会場(B8会議室)
第IX会場(B9会議室)
第X会場(B10会議室)
ポスター会場A(エレベータホール・廊下)
ポスター会場B(エレベータホール・廊下)
ポスター会場E(エレベータホール・廊下)
ポスター会場F(エレベータホール・廊下)
ポスター会場G(エレベータホール・廊下)
ポスター会場I(エレベータホール・廊下)
展示会場(ロビー)
B: レーザー装置(9:00 〜 10:30)
[B05-14a-I]

高出力レーザー

座長:田丸 裕基(大阪大学)
口頭講演
B: レーザー装置(13:45 〜 15:30)
[B07-14p-I]

ファイバレーザー1

座長:荻野 純平(大阪大学)
口頭講演
B: レーザー装置(15:45 〜 17:30)
[B08-14p-I]

ファイバレーザー2

座長:荻野 純平(大阪大学)
口頭講演
E: レーザー計測(9:00 〜 10:30)
[E05-14a-II]

生体光計測

座長:藤原 正澄(岡山大学)
口頭講演
E: レーザー計測(13:45 〜 15:15)
[E07-14p-III]

テラヘルツ光科学

座長:門内 靖明(東京大学)
口頭講演
E: レーザー計測(15:30 〜 17:30)
[E08-14p-III]

テラヘルツ生体応用

座長:保科 宏道(理化学研究所)
口頭講演
D: レーザープロセシング(9:00 〜 10:30)
[D05-14a-VI]

微細加工Ⅰ

座長:早崎 芳夫(宇都宮大学)
口頭講演
D: レーザープロセシング(10:45 〜 12:15)
[D06-14a-VI]

微細加工Ⅱ

座長:橋田 昌樹(東海大学/京都大学)
口頭講演
D: レーザープロセシング(13:45 〜 14:45)
[D07-14p-VI]

微細加工Ⅲ

座長:宮地 悟代(東京農工大)
口頭講演
D: レーザープロセシング(15:00 〜 17:00)
[D08-14p-VI]

表面改質

座長:甲藤 正人(宮崎大学)
口頭講演
F: 光機能材料・デバイス(9:00 〜 10:30)
[F03-14a-VII]

ナノ構造による光制御

座長:早瀬 潤子(慶応大学)
口頭講演
H: 光情報処理(9:30 〜 10:30)
[H04-14a-VIII]

光情報処理

座長:下村 優(大阪大学)
口頭講演
H: 光情報処理(10:45 〜 12:15)
[H05-14a-VIII]

光情報処理II

座長:田中 洋介(京都工芸繊維大学)
口頭講演
H: 光情報処理(15:15 〜 16:45)
[H07-14p-VIII]

波面制御I

座長:最田 裕介(和歌山大学)
口頭講演
G: 光通信・光無線(9:00 〜 10:15)
[G01-14a-X]

光無線給電

座長:遊部 雅生(東海大学)
口頭講演
G: 光通信・光無線(10:45 〜 12:00)
[G02-14a-X]

衛星・空間光通信

座長:吉田 悠来(国立研究開発法人 情報通信研究機構 ネットワーク研究所)
口頭講演
(9:00 〜 17:30)
[EX2]

展示会

展示会