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9:30 AM - 9:45 AM JST(12:30 AM - 12:45 AM UTC)

[19a-A301-3]Explosive Crystallization of Amorphous Ge Films on Substrates by Irradiation with a Low-Energy Electron Beam

〇Hibiki Sakamoto¹, Ryusuke Nakamura¹, Junichi Yanagisawa¹, Taizoh Sadoh² (1.Univ. of Shiga Pref., 2.Kyushu Univ.)

amorphous germanium,electron beam irradiation,explosive crystallization

数keVの低エネルギーの電子ビーム照射によりアモルファスゲルマニウムは瞬間的かつ広域の結晶化（爆発的結晶化）を起こす．本稿では，基板に成膜した試料において爆発的結晶化が起こる条件（基板の種類や膜厚）を調べた結果を発表する．