講演情報
[19a-A301-3]基板に成膜したアモルファスGe薄膜への低エネルギー電子ビーム照射による爆発的結晶化
〇坂元 響1、仲村 龍介1、柳澤 淳一1、佐道 泰造2 (1.滋賀県大工、2.九州大工)
キーワード：
アモルファスゲルマニウム,電子ビーム照射,爆発的結晶化
数keVの低エネルギーの電子ビーム照射によりアモルファスゲルマニウムは瞬間的かつ広域の結晶化（爆発的結晶化）を起こす．本稿では，基板に成膜した試料において爆発的結晶化が起こる条件（基板の種類や膜厚）を調べた結果を発表する．