[19p-A202-8~15] 17.3 Layered materials

5:15 PM - 5:30 PM JST(8:15 AM - 8:30 AM UTC)

[19p-A202-13] Sputtering Temperature Dependence of WS₂ Film in Sulfur Vapor Annealing

〇(B)Soma Ito¹, Shinya Imai¹, Naoki Matsunaga¹, Keita Kurohara¹, Hitoshi Wakabayashi¹ (1.Tokyo Tech)

Keywords:

semiconductor,TMDC,Sputter deposition

スパッタ温度の異なるWS₂膜を成膜し硫黄雰囲気中アニール前後での結晶性を測定することにより、WS₂膜の硫黄雰囲気中アニールにおけるスパッタ温度依存性の調査を行った。