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10:30 AM - 10:45 AM JST(1:30 AM - 1:45 AM UTC)

[20a-A301-6]Development of Minimal Fab laser heating tool for low temperature processing at 300-600℃(Ⅱ)

〇kazushige sato^1,2, Takashi Chiba^1,2, Masao Terada^1,2, Kengo Hamada^1,2, Shiro Hara^1,3 (1.MINIMAL, 2.Sakaguchi E.H VOC Corp., 3.AIST)

Minimal Fab,Laser Heating

低温(300〜600℃)処理用レーザ加熱装置の開発を進めているが、シンタリング工程への適用を想定し、実際にSiウェハにAl配線を形成し加熱への影響を調べた。