[20a-A302-1~10] 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

9:30 AM - 9:45 AM JST(12:30 AM - 12:45 AM UTC)

[20a-A302-3] Effects of Solvents on NiO Thin Films by Electrostatic Spray Deposition

〇Keito Okubo¹, Keisuke Tomono¹, Kohta Hori¹, Mutsumi Sugiyama^1,2 (1.Tokyo Univ. Sci., 2.RIST)

Keywords:

Nickel oxide,wet process,hole-transporting-layers

ウェットプロセスの一種である静電スプレー法(ESD)は、ノズル-基板間に高電圧を印加することで溶液のスプレー化を行う。ESDにおけるNiO薄膜の結晶成長メカニズムは明らかになっておらず、表面粗さの抑制、結晶子サイズの増加、電気特性の制御などに関する手法は確立されていない。本研究ではスプレー状態に溶媒の物性が大きく影響することに着目し、ESDにおいて溶媒がNiO薄膜の諸特性に与える影響について検討した。