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[20a-A304-2]Condition to overestimate DIBL parameter in cryogenic operation of MOSFETs

〇(M1)Yuika Kobayashi1,2, Hidehiro Asai2, Shota Iizuka2, Junichi Hattori2, Tsutomu Ikegami2, Koichi Fukuda2, Tetsuro Nikuni1, Takahiro Mori2 (1.Tokyo Univ. of Science, 2.AIST)

Keywords:

cryo-CMOS,DIBL,TCAD simulation

極低温環境におけるMOSFETの動作機構の解明は、量子コンピュータの制御用集積回路の実現にむけて重要である。我々はこれまでに、ゲートに対するソース/ドレインのアンダーラップが存在する場合、極低温では低Vd条件下でのVtが異常を示し、DIBLが過剰に見積られる可能性を指摘した。今回我々は、このような過剰見積の発生条件を、TCADシミュレーションを用いて詳細に検討した。その原因は伝達特性の異常なVd依存性にある。