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[21a-A306-9]Modification of Graphene by the Photoemission-assisted Plasma (II) - Photoelectron Analysis -

〇Susumu Takabayashi1, Akito Fukuda1, Haruhiro Naito1, Shuto Tanaka1, Hisato Yamaguchi2, Shuichi Ogawa3, Yuji Takakuwa4, Yasutaka Tsuda5, Akitaka Yoshigoe5 (1.National Institute of Technology, Ariake College, 2.Los Alamos National Laboratory, 3.CIT, Nihon Univ., 4.mSIC, Tohoku Univ., 5.Japan Atomic Energy Agency)

Keywords:

graphene,photoemission-assisted plasma

グラフェンの可能性をより引き出すために、その化学修飾が広く挑まれている。しかしながら二次元層状物質であるグラフェンは、既存の手法では致命的なダメージが入りやすい。本発表で我々は、独自の光電子制御プラズマを用いたグラフェンの修飾制御を報告する。