講演情報
[21a-A306-9]光電子制御プラズマによるグラフェン改質 (II) ～ 光電子分光解析 ～
〇鷹林 将1、福田 旺土1、内藤 陽大1、田中 修斗1、山口 尚登2、小川 修一3、高桑 雄二4、津田 泰孝5、吉越 章隆5 (1.有明高専、2.ロスアラモス国立研究所、3.日本大学 生産工、4.東北大学 マイクロ研究開発センター、5.日本原子力研究開発機構)
キーワード：
グラフェン,光電子制御プラズマ
グラフェンの可能性をより引き出すために、その化学修飾が広く挑まれている。しかしながら二次元層状物質であるグラフェンは、既存の手法では致命的なダメージが入りやすい。本発表で我々は、独自の光電子制御プラズマを用いたグラフェンの修飾制御を報告する。