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[21p-B201-15]Analysis of conductivity modulation using GaN pn junction diodes with different drift layer widths
〇Shigeyoshi Usami1, Hiroshi Ohta2, Hirotaka Watanabe3, Masayuki Imanishi1, Shugo Nitta3, Yoshio Honda3, Tomoyoshi Mishima2, Hiroshi Amano3, Yusuke Mori1 (1.Osaka Univ., 2.Hosei Univ., 3.IMaSS Nagoya Univ.)
Keywords:
Conductivity modulation,pn junction diodes,gallium nitride
伝導度変調によるバイポーラデバイスのオン抵抗低減を正確に予測するには高レベル注入キャリア寿命(τHL)の同定が必須である.特にGaNのpn接合ダイオード(PND)ではフォトンリサイクリング効果や通電加熱によるp型GaN(pGaN)内正孔濃度の増加など様々な現象が介在するため,通常のIVスイープではτHLの評価は困難となる.そこで,我々はパルスIV測定によって発熱の影響を排除し,オン抵抗のドリフト層幅(WD)依存性からτHLを評価したので報告する.