Presentation Information
[21p-C402-3]Curvature evaluation of free-standing heteroepitaxial diamond thick films grown on Ir/MgO substrate
〇(M2)Tomoya Nakamura1, Yutaka Kimura2, Atsuhito Sawabe3, Ryuji Oshima1,2, Hideo Aida1 (1.Nagaoka Univ. of Tech., 2.Disco Corp., 3.Aoyama Gakuin Univ.)
Keywords:
diamond,curvature,MPCVD
酸化物基板上Ir薄膜へのヘテロエピタキシャルダイヤモンド成長は、下地基板とダイヤモンドの熱膨張係数差による反りが課題である。本研究では、Ir/MgO基板上へ成長させた自立ダイヤモンド基板の反り検討のため、外形と内部結晶面の曲率を観察した。ダイヤモンド基板の外形曲率は凸方向に曲率値約8500 km-1、内部結晶面曲率は約3900 km-1であった。よって、外形と内部結晶面で反りが異なることが明らかになった。