[22a-A401-1~12] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

9:00 AM - 9:15 AM JST(12:00 AM - 12:15 AM UTC)

[22a-A401-1] Investigation of the nanopatterning of yttrium iron garnet using plasma dry etching

〇(M2)Tatsuya Kitai¹, Siyuan Gao², Kota Taniguchi¹, Satoshi Iwamoto², Ota Yasutomo¹ (1.Keio Univ., 2.RCAST, the Univ. of Tokyo)

Keywords:

plasma dry etching,yttrium iron garnet

イットリウム鉄ガーネット(YIG)に対する高精度な微細加工技術の構築は、同材料を用いた磁気ナノフォトニクスの探求に不可欠と言える。しかしYIGは難加工性材料であり、光の波長スケールで高品質なYIG光学構造を自在に形成する技術は未だ実現されていない。今回我々は、Arガスのみを用いたドライエッチングを検討し、急峻なエッチング側壁角の実現に成功したので報告する