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[22a-A401-4]Quantitative evaluation of ion composition based on ionization rate at discharge-on phase in a capacitively coupled Ar/C4F8/O2 pulsed-plasma
〇Haruhito Kato1, Yudai Akatuka1, Shuichi Kuboi1, Haruka Suzuki1,2, Hirotaka Toyoda1,2,3 (1.Nagoya Univ, 2.cLPS, Nagoya Univ, 3.NIFS)
Keywords:
plasma,etching,ion composition
Ar/C4F8/O2パルスプラズマのイオン組成変化を測定するとともに、組成時間変化がパルスOn直後と定常時の電子温度の違いとそれにともなう各イオンの電離レートの変化に起因することを指摘してきた。今回これを実証するため、実験的に評価したパルスOn直後の電離レートからパルスOn直後の各イオンの電離レート比を評価し、イオン組成の測定結果と比較検討をおこなった。