[22p-P01-1~10] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[22p-P01-10] Removal of Polystyrene-based Polymers Using Water Vapor Plasma

Kyohei Yamaji¹, 〇Masashi Yamamoto¹, Khant Nyar Paing², Takeshi Aizawa², Tatsuo Ishijima², Hideo Horibe³ (1.Kagawa KOSEN, 2.Kanazawa Univ., 3.Osaka Metrop. Univ.)

Keywords:

water vapor plasma,removal and decomposition,polystyrene-based polymer

本研究では，水蒸気プラズマによる分解・除去メカニズムを検討するために，官能基の異なる4種類のポリスチレン系ポリマー（PS；H基，PVP；OH基，α-PMS；CH₃基，4-PMS；CH₃基）を用いた。除去速度の序列は，活性種や化学構造，官能基の性質にしたがい，4-PMS > PVP > α-PMS > PSとなった。