[22p-P01-1~10] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[22p-P01-10] 水蒸気プラズマによるポリスチレン系ポリマーの除去

山地 恭平¹、〇山本 雅史¹、Khant Nyar Paing²、相澤 洸²、石島 達夫²、堀邊 英夫³ (1.香川高専、2.金沢大、3.大阪公立大)

キーワード：

水蒸気プラズマ,分解・除去,ポリスチレン系ポリマー

本研究では，水蒸気プラズマによる分解・除去メカニズムを検討するために，官能基の異なる4種類のポリスチレン系ポリマー（PS；H基，PVP；OH基，α-PMS；CH₃基，4-PMS；CH₃基）を用いた。除去速度の序列は，活性種や化学構造，官能基の性質にしたがい，4-PMS > PVP > α-PMS > PSとなった。