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[22p-P01-2]Numerical analysis of input-power dependence of low-pressure RF plasma properties for effective utilization of hydrocarbon gas for DLC deposition
〇(M1)Takuya Ishihara1, Shun Sasaki1, Hiroyuki Kousaka2, Akinori Oda1 (1.Chiba Insy.Technol., 2.Gifu Univ.)
Keywords:
PF plasma,deposition,exhaust gas
プラズマCVD法は均一な薄膜を成膜できる利点から多くの成膜プロセスに利用されているが，原料ガスの90%以上がプラズマ中で未反応のまま排気されており, DLC成膜などの炭化水素ガスを原料ガスとした成膜プロセスでは温室効果ガスの排気が問題となっている．本報告では，プラズマプロセスにおける原料ガスの有効利用を目的として，投入電力を変化させた際のDLC成膜に寄与する粒子の電極への入射量について解析を行ったので報告する．