講演情報
[22p-P01-2]DLC成膜用炭化水素ガスの有効利用を目的とした低圧RFプラズマ特性に及ぼす投入電力依存性の数値解析
〇(M1)石原 卓也1、佐々木 瞬1、上坂 裕之2、小田 昭紀1 (1.千葉工大工、2.岐阜大工)
キーワード：
RFプラズマ,成膜,排気ガス
プラズマCVD法は均一な薄膜を成膜できる利点から多くの成膜プロセスに利用されているが，原料ガスの90%以上がプラズマ中で未反応のまま排気されており, DLC成膜などの炭化水素ガスを原料ガスとした成膜プロセスでは温室効果ガスの排気が問題となっている．本報告では，プラズマプロセスにおける原料ガスの有効利用を目的として，投入電力を変化させた際のDLC成膜に寄与する粒子の電極への入射量について解析を行ったので報告する．