Presentation Information
[22p-P07-5]Evaluation of etching rate of insulating film using graded etching by ellipsometry measurement
〇Aki Suzuki1, Keiko Inoue1, Yusaku Tanahashi1, Hirofumi Seki1 (1.Toray Research Center, Inc.)
Keywords:
insulating film,graded etching,ellipsometry
絶縁膜は膜質や官能基量によりエッチングレートが異なるため、FTIRやXPSの評価では試料ごとの算出が不可欠となる。浸漬から洗浄、乾燥まで処理可能なエッチング装置を開発し、数cm角の傾斜エッチング試料が再現よく簡便に得られるようになった。エリプソメトリーで膜厚分布を測定し、エッチングレートと面内や深さ方向のエッチングの均一性の評価について報告する。