Presentation Information
[23p-A301-11]Influence of magnet position on array-shaped RF magnetron sputtering source based on a combination of race-track and segment magnetron plasmas
〇(M2)Ryunosuke Masunaga1, Yasunori Ohtsu1 (1.Saga Univ.)
Keywords:
RF magnetron sputtering,segment magnetron plasmas,uniform target utilization
これまでの報告では，小型マグネトロンプラズマを円形ターゲット面上にアレー状に配置できる新しい磁石配置を考案した．磁石を回転させたときの時間平均したイオン飽和電流（イオンフラックス）の空間分布から予測されるターゲット利用率が89.4%に相当する結果を得た．
今回の報告では，イオン飽和電流分布に及ぼす小型マグネトロンプラズマの磁石位置の影響を検討した．
今回の報告では，イオン飽和電流分布に及ぼす小型マグネトロンプラズマの磁石位置の影響を検討した．