講演情報

15:45 〜 16:00奨励賞エントリー

[23p-A301-11]小型マグネトロンプラズマのアレー状配置型高周波マグネトロンスパッタ源に及ぼす磁石位置の影響

〇(M2)升永龍之介¹、大津康徳¹ (1.佐大理工)

キーワード：

高周波マグネトロンスパッタリング,小型マグネトロンプラズマ,ターゲット有効利用

これまでの報告では，小型マグネトロンプラズマを円形ターゲット面上にアレー状に配置できる新しい磁石配置を考案した．磁石を回転させたときの時間平均したイオン飽和電流（イオンフラックス）の空間分布から予測されるターゲット利用率が89.4%に相当する結果を得た．
今回の報告では，イオン飽和電流分布に及ぼす小型マグネトロンプラズマの磁石位置の影響を検討した．

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