[22a-61C-1~9] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

9:00 AM - 9:15 AM JST(12:00 AM - 12:15 AM UTC)

[22a-61C-1] Optimal rinsing method in spin droplet cleaning technology

〇Kazumasa Nemoto¹, Takashi Yajima², Noriko Miura², Kazushige Sato², Shiro Hara^1,2,3 (1.AIST, 2.Minimal Fab, 3.Hundred)

Keywords:

Minimal Fab

ミニマルファブでの洗浄装置では、ウェハを保持するウェハステージにリングを装着する事によりウェハ表面と裏面の表面張力が連動してウェハ上下の液体が一体化保持され、両面洗浄が可能になる。但し、ウェハ洗浄薬液を超純水に置換するリンス方法が難しくなり薬液の種類別でリンス効果に違いがでる。今回、薬液別のリンス置換性能を置換効率の観点から体系的に調べた。