Presentation Information
[22a-61C-2]Drying tool of wafer cleaning process in wafer manufacturing for Minimal Fab Ⅱ
〇Takashi Yajima1, Tatsuya Fujita3, Kazumasa Nemoto2, Fumito Imura3, Shiro Hara1,2,3 (1.MINIMAL, 2.AIST, 3.Hundred)
Keywords:
MINIMAL
ミニマルウエハ製造におけるウエハ最終洗浄後の接乾に、マランゴニ乾燥が適用できるか検討を行った。その結果、完全にウォーターマークのない乾燥は行えなかったが、今後乾燥速度、N2/IPA流量などの条件を最適化していくことで、欠陥の出ない乾燥が行える可能性があると考えられる結果を得た。また、今回のマランゴニ乾燥におけるIPA使用量は、前回報告したIPA直接乾燥の約1/4であった。