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10:30 AM - 10:45 AM JST(1:30 AM - 1:45 AM UTC)

[22a-61C-6]Development of Minimal Fab laser heating tool for low-temperature processing at 300 – 600 ℃(Ⅲ)

〇kazushige sato^1,2, Takashi Chiba^1,2, Masao Terada^1,2, Kengo Hamada^1,2, Shiro Hara^1,3 (1.MINIMAL, 2.SAKAGUCHI ELECTRIC HEATERS, 3.AIST)

Minimal Fab,Laser Heating

低温(300〜600℃)処理用レーザ加熱装置の開発を進めている。開発初号機において、SOIウェハに形成したMOSデバイスのシンタリングを行うと、Alが溶ける問題が見られた。今回、その原因を探る実験を実施したので結果について報告する。