[22p-12G-1~11] 8.1 Plasma production and diagnostics

2:45 PM - 3:00 PM JST(5:45 AM - 6:00 AM UTC)Presentation by Applicant for JSAP Young Scientists Presentation Award

[22p-12G-2] Energy-resolved measurement of ion angular distribution in dual-frequency capacitively-coupled plasma

〇Shunya Kawamura¹, Dohan Kim¹, Haruka Suzuki¹, Daiki Iino², Hiroyuki Fukumizu², Kazuaki Kurihara², Toyoda Hirotaka¹ (1.Nagoya Univ., 2.Kioxia Corp.)

Keywords:

etching

プラズマから基板へする高エネルギー粒子の入射角度分布はエッチング精度を決める上で重要なパラメータの一つであるが、報告例は少ない。本研究では、ドリフト管内に設置された偏向電極にパルス電圧を印加することで、計測用のICCDカメラのゲート機能を組み合わせ、Time-of-Flight（TOF）法によるイオン入射角度分布のエネルギー分解計測を行ったので報告する。