Presentation Information
[22p-P07-40]Fabrication of various sulfide thin films via reactive sputtering with sulfur plasma
〇ISSEI SUZUKI1, Daiki Motai1, Taichi Nogami1, Takahisa Omata1 (1.Tohoku Univ.)
Keywords:
Layered compounds,Sulfide semiconductors,Reactive sputtering
SnSやWS2などの層状構造を有する硫化物半導体は光電変換素子などの応用が期待される。硫化物の薄膜化では、硫黄の蒸気圧が高いことから、硫黄が欠損した組成となりやすい。硫黄雰囲気やH2S雰囲気下でのポストアニールなどにより硫黄欠損の低減がはかられてきたが、硫黄の不均一な拡散や不純物水素の問題がある。本研究では、硫黄プラズマを供給しながら金属ターゲットをスパッタする手法により、種々の硫化物の薄膜を作製した。