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[24p-12G-13]Effects of alkali metal doping on current amplification of titanium oxide thin film transistors

〇Ryo Miyazawa1, Haruto Suzuki1, Hibiki Takeda1, Masanori Miura1, Fumihiko Hirose1 (1.Yamagata Univ.)

Keywords:

thin film transistor,atomic layer deposition

本研究では、独自のアルカリ金属ドープ法を用いて薄膜トランジスタの電気的特性の改善を試みる。アルカリ金属吸着特性のあるアルミニウムシリケートを酸化チタン薄膜トランジスタのチャネル上に成膜した。アルカリ金属を吸着させ、I-V特性を取得したところ、アルカリ金属の吸着前後でドレイン電流の増強が確認できた。学会ではドレイン電流の増強要因について報告する。