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[24p-P09-1]Development of Spatially Zero-Dimentional Model of High-Power Impulse Magnetron Sputtering Plasmas
〇Keita Kakinuma1, Motoki Abe1, Takayuki Ohta2, Akinori Oda1 (1.Chiba Inst. Technol., 2.Meijo Univ.)
Keywords:
plasma,sputtering,simulation
大電力パルスマグネトロンスパッタリング(HiPIMS)は低温プラズマを用いた金属成膜手法の一つである。パルス電源を用いることで，金属粒子のイオン化率が向上するため，膜硬度や密着性を向上させる。しかし，従来の直流電源のものと比較して成膜速度が低下するため，HiPIMSの内部機構を解明し，成膜速度を改善させる必要がある。本研究では，HiPIMSのプラズマの空間0次元モデルを構築し，各種プラズマ特性の時間変化を解析したため報告する。