Presentation Information
[24p-P09-6]Effects of gas pressure on deposition characteristics of hydrogenated amorphous carbon films using CxHy + Ar plasma CVD
〇(M2)Shinjiro Ono1, Manato Eri1, Takamasa Okumura1, Naoto Yamashita1, Kunihiro Kamataki1, Naho Itagaki1, Kazunori Koga1, Masaharu Shiratani1 (1.Kyushu Univ.)
Keywords:
hydrogenated amorphous carbon,plasma chemical vapor deposition,higher hydrocarbon molecule
本研究では、クメン（C9H12）を前駆体にプラズマCVD法により水素化アモルファスカーボン膜を堆積した。比較材料としてメタン（CH4）とアセチレン（C2H2）を用い、堆積特性について圧力依存性（0.02Torr, 0.05Torr, 0.3Torr）を調べた。クメンを用いた場合、製膜速度が291nm/min（＠0.3Torr）と他の材料と比べ非常に高い値を示した。詳細は講演にて説明する。