[24p-P09-1~8] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[24p-P09-6] C_xH_y+ArプラズマCVDを用いた水素化アモルファスカーボン膜の堆積特性に対するガス圧力の効果

〇(M2)小野 晋次郎¹、恵利 眞人¹、奥村 賢直¹、山下 尚人¹、鎌滝 晋礼¹、板垣 奈穂¹、古閑 一憲¹、白谷 正治¹ (1.九州大学)

キーワード：

水素化アモルファスカーボン,プラズマ化学気相堆積,高次炭化水素分子

本研究では、クメン（C₉H₁₂）を前駆体にプラズマCVD法により水素化アモルファスカーボン膜を堆積した。比較材料としてメタン（CH₄）とアセチレン（C₂H₂）を用い、堆積特性について圧力依存性（0.02Torr, 0.05Torr, 0.3Torr）を調べた。クメンを用いた場合、製膜速度が291nm/min（＠0.3Torr）と他の材料と比べ非常に高い値を示した。詳細は講演にて説明する。