[25a-12M-1~11] 7.2 Applications and technologies of electron beams

11:00 AM - 11:15 AM JST(2:00 AM - 2:15 AM UTC)

[25a-12M-8] Fabrication of HfN Spindt-type Emitter by Triode High Power Pulsed Magnetron Sputtering

〇(M1C)Shun Kondo^1,2, Takeo Nakano¹, Md. Suruz Mian¹, Masayoshi Nagao², Hiromasa Murata² (1.Seikei Univ., 2.AIST)

Keywords:

Spindt-type emitter,Hafnium Nitride,Triode High Power Pulsed Magnetron Sputtering

我々は三極型大電力パルススパッタリング(t-HPPMS)を用いてスピント型エミッタの作製を試みている。従来、エミッタ形成に用いられてきた真空蒸着法をスパッタリングで代替できれば、大面積化と化合物エミッタの形成が可能になる。今回、t-HPPMSの条件とエミッタ形状の関係を調査し、先鋭なHfNエミッタの作製に成功したため、これらの結果について報告する。