[25a-61B-1~8] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

9:15 AM - 9:30 AM JST(12:15 AM - 12:30 AM UTC)

[25a-61B-1] TiN topographical etching with ECR etching system

〇Koichi Takasaki¹, Makoto Satake², Makoto Miura¹ (1.Hitachi High-Tech, 2.Hitachi R&D)

Keywords:

etching,TiN,topographical

イオンとラジカルの両方を照射してRIEを行う機能と、ラジカル等の中性粒子のみを照射して等方性なRadical etchingを行う機能との切り替えが可能なマイクロ波ECR装置を用いて、Cl2系のRadical etchingとRIEの適切な組み合わせにより、トポグラフィカルなTiN選択的エッチングを実現した。