[25a-61B-1~8] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

11:00 AM - 11:15 AM JST(2:00 AM - 2:15 AM UTC)Presentation by Applicant for JSAP Young Scientists Presentation Award

[25a-61B-7] Development of Dry Etching Gasses Using Digital Twin with Plasma Parameters

〇Hiroki Nakamura¹, Takumi Shimosuki¹, Kenta Tanaka², Moe Kaneko², Yasuhiro Nojiri², Osamu Kumagai², Hisataka Hayashi² (1.Daikin Industries, Ltd. Technology and Innovation Center, 2.Daikin Industries, Ltd. Chemical Division)

Keywords:

Etching Gas,Digital Twin,Plasma Parameter

デバイスの微細化、高集積化に伴い、エッチングプロセス構築が年々、難化している。プロセス課題解決の効果的な手段のひとつに新ガスの添加がある。しかし、ガス添加により、プラズマの状態が大きく変化し、エッチング条件適正化には多くの工数がかかる。本報告では、プラズマ物理量を導入したデジタルツインによるエッチング条件の効率的な探索手法について報告する。