[25p-61B-1~9] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

1:15 PM - 1:30 PM JST(4:15 AM - 4:30 AM UTC)

[25p-61B-2] Hybrid machine learning model for high-mobility amorphous ITO films fabricated by RF plasma sputtering deposition

〇KUNIHIRO KAMATAKI¹, Naho Itagaki¹, Daisuke Yamashita¹, Takamasa Okumura¹, Naoto Yamashita¹, Kazunori Koga¹, Masaharu Shiratani¹ (1.Kyushu Univ.)

Keywords:

Machine Learning,Plasma Process,RF plasma sputtering deposition

非線形・非平衡であるプラズマプロセスにおける最適なプロセス条件を見出すことに膨大なコストが必要であり, 機械学習の活用は有用な手段と一つとなっている. 本研究では, プラズマプロセスの最適条件探査の機械学習適用の一例として,高周波マグネトロンスパッタリング法により高移動度アモルファスITO成膜を実現するための, 適切な分類モデルと回帰モデルを組み合わせたハイブリッド機械学習手法を開発した.