Presentation Information
[25p-61B-3]Insights into SiO2 film properties inside three-dimensional structures deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition
〇Takashi Hamano1, Nobuyuki Kuboi1, Hiroyasu Matsugai1, Tetsuya Tatsumi1, Shoji Kobayashi1, Yoshiya Hagimoto1, Hayato Iwamoto1 (1.Sony Semiconductor Solutions Corporation)
Keywords:
plasma-enhanced atomic layer deposition,simulation,SiO2 film properties
プラズマを用いた成膜プロセスでは，堆積膜表面に照射されるイオンが膜質に影響を与える．立体構造への成膜では，構造体内部において膜質が一様でないと予想されるが，その評価・解析は難しく予測技術が重要である．本講演では，これまで我々のグループが構築してきた成膜シミュレーション技術をプラズマALDに応用し，各立体構造（トレンチ，ホール）に依存して多様な形態をとりうるSiO2膜質分布について考察する．