講演情報
[25p-61B-3]プラズマALDにおける立体構造内SiO2膜質分布の定量考察
〇濱野 誉1、久保井 信行1、松谷 弘康1、辰巳 哲也1、小林 正治1、萩本 賢哉1、岩元 勇人1 (1.ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社)
キーワード：
プラズマALD,シミュレーション,SiO2膜質
プラズマを用いた成膜プロセスでは，堆積膜表面に照射されるイオンが膜質に影響を与える．立体構造への成膜では，構造体内部において膜質が一様でないと予想されるが，その評価・解析は難しく予測技術が重要である．本講演では，これまで我々のグループが構築してきた成膜シミュレーション技術をプラズマALDに応用し，各立体構造（トレンチ，ホール）に依存して多様な形態をとりうるSiO2膜質分布について考察する．