[10a-N323-1~11] 8.1 Plasma production and diagnostics

9:00 AM - 9:15 AM JST(12:00 AM - 12:15 AM UTC)

[10a-N323-1] Investigation of Plasma Control Using Rectangular Amplitude-Modulated Discharges: Simulations and Experiments

〇KUNIHIRO KAMATAKI¹, Yushi Sato¹, Yousei Kurosaki¹, Tsukasa Masamato¹, Daisuke Yamashita¹, Takamasa Okumura¹, Naho Itagaki¹, Kazunori Koga¹, Masaharu Shiratani¹ (1.Kyushu Univ.)

Keywords:

Plasma process,Tailored voltage waveforms discharge

AIやIoTの進展に伴い、半導体デバイスの高機能化と複雑な三次元構造の形成が求められており、これに対応するためにはプラズマプロセス中の電子密度や電子温度といったパラメータの高精度制御が不可欠である。特に電子温度制御は重要な課題であり、それを実現できる放電手法は制限されている。そこで、本研究では、放電電圧の振幅を矩形波状に変調する放電を導入し、これによる電子加熱特性をシミュレーションと実験にて評価した。