[10p-N324-1~12] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

4:00 PM - 4:15 PM JST(7:00 AM - 7:15 AM UTC)

[10p-N324-10] Elucidation of primary dissociation mechanisms of hydrofluorocarbons based on photoelectron-photoion coincidence (PEPICO) measurements

Trung Nguyen Tran¹, Hiroshi Iwayama², Toshio Hayashi¹, Kenichi Inoue¹, Takayoshi Tsutsumi¹, 〇Kenji Ishikawa¹ (1.Nagoya Univ., 2.IMS)

Keywords:

Plasma etching,Photoelectron-photoion coincidence,Hydrofluorocarbon

シリコン絶縁膜のエッチングガスであるC₃HF₅の解離光イオン化を光電子－光イオンコインシデンス測定により調べ，生成されるCxHyFzがSiNに，CxFyがSiO₂のエッチングにおいて効率的に働き揮発させる機構を紹介する．