[10p-N403-1~11] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

2:30 PM - 2:45 PM JST(5:30 AM - 5:45 AM UTC)

[10p-N403-5] Mechanism of Surface Roughness Formation of Resist after Spin Coating on Step Substrates

〇Yasuhiro Shikahama¹, Takayoshi Honda¹, Yoshiya Hagimoto¹, Suguru Shiratori² (1.Sony Semiconductor Solutions Corp., 2.Tokyo City Univ.)

Keywords:

resist,spin coating

段差を有する基板上へレジストを回転塗布する際、段差のパターンに起因した凹凸がレジスト膜に形成される。このレジスト表面の凹凸形成メカニズムを体系的に説明した研究は少ない。そこで、本研究では、これを扱える共同研究先の流体シミュレータを使用し、段差を有する基板へレジストを回転塗布した際のレジスト凹凸形成メカニズムを検討した。その結果、流動工程時は平坦な形状であるが、乾燥工程時は凹凸が形成されることが分かった。