講演情報
[10p-N403-5]段差を有する基板への回転塗布後レジスト表面の凹凸形成メカニズム
〇鹿浜 康寛1、本多 孝好1、萩本 賢哉1、白鳥 英2 (1.ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社、2.東京都市大)
キーワード：
レジスト、回転塗布
段差を有する基板上へレジストを回転塗布する際、段差のパターンに起因した凹凸がレジスト膜に形成される。このレジスト表面の凹凸形成メカニズムを体系的に説明した研究は少ない。そこで、本研究では、これを扱える共同研究先の流体シミュレータを使用し、段差を有する基板へレジストを回転塗布した際のレジスト凹凸形成メカニズムを検討した。その結果、流動工程時は平坦な形状であるが、乾燥工程時は凹凸が形成されることが分かった。